“目前来说，我们算是在小步快跑的前进之中，这些设备和零件，我们有信心在今年完成仿制，造出第一台真正意义上的国产光刻机。
虽然预计精度只在1.2微米左右，但也能算一个良好的开端了。”
周教授讲解了一大圈，李秀成听得也认真，总的来说周教授的思路还是跟李秀成所想一致，就是从根源上去实现全方位的追赶。
当然，这其中的困难肯定是极大的。
比如说镜头，无论是现在还是未来，都没有国内厂商什么事儿，这就是差距。
但好在李秀成知道前世的许多大事件，只要把握的好，也不是没有办法将这些困难攻克掉。
当周教授解说完，李秀成才开口道：“饭要一口一口的吃，只要这个差距在不断的缩小，我们就总有追赶上并反超的一天。
现在我们定个小目标，在三年内，也就是到92年，争取将精度提升到纳米级别。”
进入纳米级别才能将芯片商业化，到时候哪怕成本高一点，他也愿意承受。
那时候也就是开始研发浸入式光刻机的时机。
前世ASML能用四年的时间研制成功浸入……
(ò﹏ò)
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