而温大伟的表现也恰恰印证了温伯格的预料，对着那几张画工精致的设计图，讲解的非常详细。
“温伯格先生，您看这里……”
温大伟说着用手指着设计图的某个位置：“这里便是我们真空镀膜技术的核心部件，磁控溅射器，该部件是我们独立研发的，是实现离子轰击的能否成功的关键所在。
其原理是利用氩离子对刀片等表面进行轰击，将表面的污染物、氧化膜以及吸附气体等从基体表面清除干净，湿度的离子轰击还可以去除刀片表面的毛刺，提高表面的光洁度……”
话音未落，温大伟又指向了另一幅设计图：“还有这里，是调整沉积室的氩气压力的，我们这款设备可以做到8乘以10的负4次方托尔的左右的数值，在国内来说属于首屈一指的存在，即便放在世界上也远远超过其他同类产品。
至于工作原理也很简单，接通靶向的工作电源，产生辉光返点，靶材原子从靶表面逸出，追着刀片夹具的公转和自转，经过靶向附近时刀片表面就会沉积成薄膜……”
温大伟介绍的可以说是细无巨细……
(ò﹏ò)
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