同月。
苏翰的离轴同轴双工作台完成设计并试生产成功。
华光微电子的高层接到苏翰的通知急忙赶来观看。
不过当他们看到以后不得不说是目瞪口呆。
这性能也太牛逼了吧！
这要是使用在光刻机上那产量不是要飞起来吗。
怪不得以前苏翰也说要搞工作台。
原来并不是说说那么简单的。
苏翰又提出了一个浸润式的光刻机思路。
虽然苏翰直言不讳此想法来源于台圈地区某代工厂的一位工程师。
但相关专利概念早几十年前就已经被申请过了。
现在已经过了专利保护期。
谁都可以用。
关键是这个专利在应用端，还处于空白期，现在是先到先得。
苏翰已经通过自己的光刻机，完成了折射率的实验，而且有了完整的设计方案，更重要的是他已经在全球注册过相关专利了。
现在在就是要求华光微电子，按照自己的专利，设计全新光刻机给自己，用于新型CPU的量产。
由于苏翰是华光微电子第一大客户。
公司高层当然不能说什么了，便答应了下来。
设计方案有了。
工作台也有了。
不过重新设计光刻机……
(ò﹏ò)
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