新世纪之后，电子束直写技术在芯片领域的应用大部分局限于科研和掩膜领域。
在电子芯片日益复杂的未来，加工一枚芯片的平均时间已经增长到了七个小时，如果芯片构造特别复杂加工一枚芯片的时间甚至高达六、七十个小时。
不过在九十年代，还有企业或研发机构试图用多光速同时加工的方式来突破电子束生产效率低下的桎梏。
比如通过多光源和多透镜使得同时工作的电子束高达上千束。
就算上千束电子束同时工作，在九十年代芯片结构比较简单的时代也只是堪堪追上曝光式光刻机的生产效率而已，不过多光束电子束光刻机三倍于曝光式光刻机的昂贵成本依旧打不开光刻机的主流市场。
当然，由于可以直接加工晶圆的缘故，电子束直写技术是加工曝光式光刻机掩膜模板的最佳技术。
王欣、刘飞扬、聂晓天三人一人数句的把光刻机市场的技术前景和大致的阵营和梁远一一的介绍了一遍。
最后，王欣总结着说道:“大少也知道，真论起研发力量我们和主流大厂肯定没法比，港基集电……
(ò﹏ò)
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