光刻机与蚀刻机技术方面，华国一直是弱项。
近年来，蚀刻机技术慢慢已经追赶上来，虽然仍有些差距，但已经能够看到弯道超车的希望。
但是光刻机技术不同，华国最先进的光刻机生产厂商尚海微电子生产的光刻机精度是90nm，而现在国际主**度为14nm，比如现在英特尔公司所使用的就是波长193nm光刻机，所能够达到的精度极限就是制作14nm制程的芯片。
而这，并不是最先进的光刻机。最先进的光刻机制造技术是荷兰ASML公司的EUV（极紫外）光刻机，利用它能够生产7nm甚至3nm制程的芯片。
从这个数字上看，就能够清晰看到，华国与其他国家在光刻机上的巨大差距，也能够明白为什么华国芯片技术，落后于的根本原因。
而之所以国内光刻机技术这么落后，其原因是多重的。
当时，国内尚海微电子达到90nm精度时，国际主**度不过65nm，可以说差距远远没有现在这么大。
现在，却有这么大的差距，根本原因是因为，一直在停滞不前。
为什么停滞不前？因为国外见华国快要碾上来的……
(ò﹏ò)
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